隨著我們身邊使用到的產品越來越多，對這些產品的使用要求也變高了，多晶硅還原電極作為我們身邊使用的比較多的產品，它的應用領域還是非常廣泛的，在我們進行多晶硅還原電極生產加工的時候，會有哪些因素影響我們多晶硅還原電極的生產效率呢?今天我們就來分析下溫度對我們多晶硅還原電極生產加工的影響，希望大家能夠了解了解。
溫度升高會導致解析速率增加，吸附速率降低。所以在實際生產過程中，溫度并非越高越好。實際沉積過程中，半導體材料自氣相向固態載體上沉積時都有最高溫度，當反應溫度超過這個溫度時，隨著溫度的升高沉積速率反而下降，各種不同的硅鹵化物有不同的。溫度升高，無論從化學反應平衡還是從反應動力學方面，都能夠使反應向有利的方向進行，加快反應速度。高溫導致反應氣體不能到達多晶硅還原爐電極表面，即化學氣相沉積未在硅棒表面發生，而是在高溫區的氣相中就已經反應了，使得硅粉微粒被氣相帶出反應器，所以硅棒表面的溫度不能過高。增加反應溫度還對結晶性能也有益。溫度高，結晶粗大，而且表面具有很亮的金屬光澤，但是溫度過高，則會發生逆腐蝕反應，使硅容易熔化。反之，溫度底，結晶細小，表面呈暗灰色。
通過上面的介紹，大家了解了溫度對我們多晶硅還原電極的影響，希望我們大家在使用這些多晶硅還原電極的時候，能夠注意它的使用事項及應用領域，更好的發揮這些多晶硅還原電極的作用，開原化工機械專業生產銷售各種多晶硅還原爐，希望有需要這些合金產品的朋友可以來我們公司選購，價格優惠，質量保障。
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